棱鏡耦合測試儀是一種用于科研和教學(xué)的光學(xué)儀器.它可用來演示光波導(dǎo)原理和光波導(dǎo)器件特性并準(zhǔn)確測量介質(zhì)薄膜參數(shù)，為光電子學(xué)科研單位和大專院校激光、應(yīng)用物理、近代物理、無線電電子工程、光纖通訊、薄膜光學(xué)及光學(xué)儀器等專業(yè)提供集成光學(xué)實(shí)驗手段和薄膜參數(shù)測量手段。

　　棱鏡耦合測試儀采用棱鏡耦合方法測試樣品折射率，可測試波長633nm、935nm、1549nm處的折射率值，通過軟件做曲線耦合科求出任何波段的模擬值。測量原理：待測樣品通過一個空氣作用的耦合探頭與棱鏡基座接觸，在薄膜與棱鏡之間產(chǎn)生一個空氣狹縫。一束激光光束照射到棱鏡基座上，通常會在基座上全反射進(jìn)入光電探測器。在某一些入射角，稱為模式角，光子向下穿過空氣狹縫進(jìn)入薄膜，進(jìn)入一種被引導(dǎo)的光傳播模式，使到達(dá)探測器的光強(qiáng)度大幅降低。

　　棱鏡耦合測試儀的技術(shù)特點(diǎn)：

　　1、對折射率隨波長變化不敏感：

　　每種薄膜的折射率都隨波長變化。在以分光光度學(xué)為基礎(chǔ)的技術(shù)中，如果沒有精確了解薄膜折射率在全波長范圍內(nèi)的變化，就會導(dǎo)致實(shí)質(zhì)性的錯誤。而且，一些可變折射率薄膜，例如等離子氮化硅的折射率-波長曲線就高度依賴于薄膜沉淀條件。對于這些薄膜，Model2010的單色測量具有了一種明顯的優(yōu)勢。

　　2、不必預(yù)先知曉薄膜厚度:

　　由于橢偏儀數(shù)據(jù)隨薄膜厚度周期性變化，橢圓偏光法要求預(yù)先知曉薄膜厚度，準(zhǔn)確度為±750to±1250，這取決于薄膜折射率。Model2010可以進(jìn)行直接的厚度測量，故不需要預(yù)先知曉薄膜厚度。

　　在某些周期性的厚度范圍內(nèi)不可能進(jìn)行以橢圓偏光法為基礎(chǔ)的折射率測量。使用Model2010，一旦薄膜厚度超過某個最小的閾值（典型值為3000-4800,取決于薄膜/基底材料類型）就可得到*準(zhǔn)確的折射率測量。

　　3、內(nèi)部一致性檢測:

　　如果薄膜厚度超過5000-7500?，將對薄膜厚度和折射率進(jìn)行多重獨(dú)立評估，并將這些多重評估的標(biāo)準(zhǔn)偏差顯示出來。只要這些測量標(biāo)準(zhǔn)偏差很低（典型值為：厚度0.3%，折射率.01%），顯著誤差幾乎不會出現(xiàn)。目前市面上還沒有其他的技術(shù)可以就每次檢測的正確性提供類似的“信心檢測”硅基上氮氧化物及硅基上氧化物的氮化物表層的測量。

　　儀器可用于如下各種實(shí)驗：

　　1、用對稱棱鏡耦合器的光波導(dǎo)實(shí)驗；

　　2、用直角棱鏡耦合器的光波導(dǎo)輸入和輸出耦合實(shí)驗；

　　3、由模折射率確定介質(zhì)薄膜的厚度、折射率和折射率分布；

　　4、金屬包復(fù)光波導(dǎo)參數(shù)測量等；

享檢測可以根據(jù)用戶需求進(jìn)行棱鏡耦合測試儀測試，用戶若自己增加一些設(shè)備和附件，該設(shè)備可以擴(kuò)展儀器功能，可用來測量光導(dǎo)的傳播損耗和薄膜折射率色散等，并可用于電光、聲光、磁光和非線性光波導(dǎo)器件實(shí)驗及一些無源光波導(dǎo)器件實(shí)驗。