入點(diǎn)

縮放至出入點(diǎn)

切至重要畫面

畫區(qū)域

單擊Track,走完時(shí)間線

此時(shí)可調(diào)整形狀

再劃一個(gè)平面

調(diào)整下透視

關(guān)閉保存

單擊查看遮罩

看下應(yīng)用遮罩，是指真實(shí)的皮膚

創(chuàng)建AE蒙版，它會(huì)畫一個(gè)蒙版

現(xiàn)在點(diǎn)一個(gè)跟蹤數(shù)據(jù)

點(diǎn)層，OK

純色層+plexus插件

• Add Gemoetry:primitive基礎(chǔ)模型
• cube立方體

cube

• X point：X軸多少點(diǎn)，密度
• Y point：Y軸多少點(diǎn) ，密度
• Z point: Z軸1層
• cube width:立方體寬度
• cube height:立方體高度
• cube Depth:立方體深度，1只給一層

建攝像機(jī)，給大家看

化妝品金色

opacity：100

Render：lines

• 線段少一點(diǎn)：Max no.of vertices to
• 距離小一點(diǎn)：maximum distance
• 線調(diào)細(xì)：opacity overdistance (框里劃)

預(yù)合成

屏幕模式

• 點(diǎn)化妝品圖層
• moach特效
• 跟蹤數(shù)據(jù)
• 圖層導(dǎo)出到：選擇：點(diǎn)線合成

• 單擊應(yīng)用導(dǎo)出

再次進(jìn)入mocha里

點(diǎn)表面，1

再點(diǎn)擴(kuò)至全屏2

保存退出

按command鍵單擊，時(shí)間變禎數(shù)，

從而找到166禎

• 圖層導(dǎo)出到：點(diǎn)線
• 應(yīng)用導(dǎo)出

這樣就跟蹤上了

• 復(fù)制「帶moach特效的文件」到點(diǎn)線合成上方
• 點(diǎn)線合成，選此層為亮度遮罩

整羽化，讓邊緣柔和

注意：所以為什么遮罩特別重要

點(diǎn)小一點(diǎn)：point size:1.5

線整體細(xì)一點(diǎn)：line Thickness:0.6

顯得更精致了

Add effector:noise

點(diǎn)一點(diǎn)紊亂

noise amplitude:給一點(diǎn)值，讓它有一點(diǎn)偏移

整體打一個(gè)預(yù)合成，屏幕模式

畫MASK，

做動(dòng)畫，讓它劃過皮膚，可交此層復(fù)制，更亮

自定義路徑

customize type:Layer Masks

start size尾部小一點(diǎn)0

此層預(yù)合成，屏幕模式

同上，把跟蹤信息給輪廓，應(yīng)用導(dǎo)出，

如果出錯(cuò)，是因?yàn)橐?66禎去畫，因?yàn)槭菑?66禎計(jì)算的。

最后做生長(zhǎng)動(dòng)畫。

插件技術(shù)點(diǎn)總結(jié)

【plexus】

1. 基礎(chǔ)模型

• Add Gemoetry:primitive：cube立方體
• X point：X軸多少點(diǎn)，密度
• Y point：Y軸多少點(diǎn) ，密度
• Z point: Z軸1層
• cube width:立方體寬度
• cube height:立方體高度
• cube Depth:立方體深度，1只給一層

2.Render：lines

• 線段多少：Max no.of vertices to
• 距離多少：maximum distance
• 線不同粗細(xì)：opacity overdistance (框里劃)
• 線調(diào)整體粗細(xì)：line Thickness:

3.點(diǎn)大小：point size:

4.紊亂：Add effector:noise

• noise amplitude:給一點(diǎn)值，讓它有一點(diǎn)偏移

【Saber】

• 自定義路徑

customize type:Layer Masks

• start size尾部小一點(diǎn)0

【moach】

細(xì)看上方