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《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》玻璃在氫氟酸中的濕法化學(xué)蝕刻研究

2021-08-09 10:01 作者:華林科納  | 我要投稿

書籍:《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》

文章:玻璃在氫氟酸中的濕法化學(xué)蝕刻研究

編號:JFKJ-21-193

作者:炬豐科技


摘要

? 高效薄膜太陽能電池需要具有高吸收、低缺陷、透明導(dǎo)電的吸收層,氧化物薄膜,透過率超過80%,導(dǎo)電率高。此外,光可以通過玻璃捕獲并送至光吸收層以提高效率。本文研究了玻璃表面形貌形式利用HF對基片進行了研究,主要分為隨機蝕刻和周期性蝕刻。我們討論了蝕刻的問題機理、蝕刻速率、硬掩膜材料、周期性光俘獲結(jié)構(gòu)。 ?

關(guān)鍵詞:光俘獲,濕法蝕刻,化學(xué),氫氟酸,薄膜,太陽能電池

介紹 ?

? 玻璃,由于其獨特的性能,被廣泛地應(yīng)用于光學(xué)器件、MEMS器件、太陽能電池等。光學(xué)透明且能承受大量光散,此影響可以被認為是最顯著的屬性在這方面,玻璃的組合是相對容易的。薄膜硅太陽能電池是一種具有巨大潛力的光伏器件。這個生產(chǎn)在大規(guī)模的全自動生產(chǎn)中進行方式允許玻璃基板和低材料用量,低成本在薄膜中,硅太陽能電池,氫化非晶硅或作為吸收層的微晶硅要使太陽能電池有效地吸收光,光對于高效率的太陽能電池來說,紋理表面的管理是必不可少的。表面紋理可以增強效果從透射光散射,然后低反射在入射光的表面。

本文還講述了關(guān)于玻璃隨機蝕刻的類型 ,濕化學(xué) ,應(yīng)用程序和結(jié)論等問題


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