本講座主要是基于掃描電子顯微鏡的系統(tǒng)來研究陰極熒光光譜的，可研究微區(qū)的熒光特性。

圖中可見存在一些線位錯，暗處為非輻射復(fù)合中心。 從俯視圖觀察，如暗點較多，則缺陷較多。

器件的性能也可以進(jìn)行分析。截面圖中不同的發(fā)光光譜可以區(qū)分不同的功能層，發(fā)光的效果則可以揭示性能的好壞。

對于低維納米結(jié)構(gòu)中應(yīng)力的改變進(jìn)行表征。

新的地質(zhì)學(xué)研究方向為CL光譜研究。