專利挖掘過程要避免的常見誤區(qū)

誤區(qū)一：專利的技術(shù)含量必須很高

專利能否獲得授權(quán)是專利法對于專利的審查標(biāo)準(zhǔn)(新穎性、創(chuàng)造性等)，不是該專利能否符合國家的技術(shù)進步獎要求，也不是“技術(shù)含量”的高低。

誤區(qū)二：簡單的結(jié)構(gòu)不能報專利

許多技術(shù)人員認為產(chǎn)品做了一點改進，或做了一些技術(shù)改造，或者產(chǎn)品的結(jié)構(gòu)很簡單，所以申請不了專利，這是對專利申請與審批的誤解。其實，簡單的結(jié)構(gòu)更應(yīng)該通過專利進行保護，防止競爭對手仿制。

誤區(qū)三：必須做出了樣品、或者技術(shù)方案已經(jīng)經(jīng)過驗證

發(fā)明、實用新型保護的是技術(shù)方案，并不需要做出樣品或樣機去論證技術(shù)方案的成功結(jié)果，只要本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠合理推理得到即可。

誤區(qū)四：1個產(chǎn)品1件專利

一般而言，新產(chǎn)品的研發(fā)過程需要攻克多項技術(shù)點，可形成多件專利。