等離子體設(shè)備設(shè)備對(duì)油脂污垢的作用類(lèi)似于燃燒油脂污垢；但區(qū)別在于低溫下的燃燒。氧等離子體設(shè)備中氧原子自由基的共同作用，使油脂分子氧化為水和二氧化碳分子，從而除去油品接觸面?？梢?jiàn)，利用等離子體設(shè)備清除(去除)油污的步驟是一個(gè)有機(jī)大分子逐步降解的步驟，生成水、二氧化碳等小分子，以氣態(tài)形式排除。
等離子體設(shè)備設(shè)備清洗的另一個(gè)特點(diǎn)是清洗后物體已經(jīng)完全干燥。經(jīng)等離子體設(shè)備處理的物體接觸面往往形成大多新的活性基團(tuán)，使物體接觸面活(化)，改變性能，可以大大提高物體接觸面的滲透性和粘附性，這對(duì)大多材料非常重要。因此，等離子體設(shè)備設(shè)備清洗具有溶劑濕法清洗無(wú)法比擬的優(yōu)點(diǎn)。

等離子體設(shè)備設(shè)備清洗由真空室、真空泵、高壓電源、電級(jí)、汽體導(dǎo)進(jìn)系統(tǒng)、工件傳輸系統(tǒng)和控制系統(tǒng)組成。整塊清洗步驟一般如下所述；清洗工件送真空固定，起動(dòng)運(yùn)作設(shè)備，逐漸放氣，使真空室真空值到達(dá)10帕上下的標(biāo)準(zhǔn)真空值。一般放氣時(shí)間需要幾分鐘上下。