Hellma Materials CaF 2多年來一直被用作半導體生產(chǎn)微光刻的光學關(guān)鍵材料。

CaF2 是投影和照明光學中準分子激光光學器件的行業(yè)標準材料。CaF2 獨特的光學特性可實現(xiàn)各種高級應(yīng)用。

技術(shù)優(yōu)勢：

Hellma Materials 的 Lithotec? CaF2 具有獨*的光學特性：

從深紫外到紅外（130nm至8μm）的高寬帶透射率

低折射率 （nd = 1.43384）

低光譜色散 （vd = 95.23）

準分子激光光學器件（157nm、193nm、248nm）具有出色的激光耐久性

對高能顆粒和輻射的合格抵抗力

直徑可達420mm

應(yīng)用領(lǐng)域：

紅外光學元件

用于天文儀器的光學元件

天基光學器件

顯微鏡光學元件

光譜光學

紫外光學

激光窗口

準分子激光光學

微光刻光學

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