半導(dǎo)體制程工藝的不斷進步，精度的不斷提高，制程越來越復(fù)雜，不僅僅是制程設(shè)備的精益求精，將有更多新器件、更多芯片堆疊和系統(tǒng)創(chuàng)新來提升性能、能耗和成本，降成本最佳辦法是縮小多晶硅間距、金屬互聯(lián)距離、電路單元厚度和晶圓材料提升，對于潔凈室中存在的氣態(tài)分子污染物（AMC）的監(jiān)測和管控的要求也越來越高。

任何漂浮在空氣中的污染物沉積在晶圓表面，都會影響工藝降低良品率。由于制程的眾多復(fù)雜步驟，導(dǎo)致PPT級的污染物都會較大程度的影響晶圓良品率。

?面對日益精進的制程工藝，AMC監(jiān)測技術(shù)也在不斷升級，瑞零科技推出的全新一代AMC在線監(jiān)測系統(tǒng)，將內(nèi)部與外部污染源實時監(jiān)控，極高靈敏度和濃度報警機制，能及時反饋給廠務(wù)端，從而控制好污染物釋放，保證良品率。

氣態(tài)分子污染物（Airborne molecular contaminant，AMC）包含：酸類（MA）、堿類（MB）、可凝結(jié)物質(zhì)（MC）、摻雜物質(zhì)（MD）和難溶物質(zhì)（MR），隨著制程尺寸越來越小，工藝復(fù)雜度和步驟不斷增加的大前提下，潔凈室內(nèi)的AMC數(shù)目和類別也會持續(xù)增加。一套靈敏度高，監(jiān)測速率快，監(jiān)測點位多的整套系統(tǒng)就必不可少。

??瑞零科技將致力于AMC在線監(jiān)測系統(tǒng)的持續(xù)精進，在制程工藝的過程中，瑞零科技不斷深耕，即將研發(fā)出過程附著AMC監(jiān)測及清潔設(shè)備，將大大降低工藝過程污染，提升良品率。