上轉(zhuǎn)換納米材料的合成方法：

開(kāi)發(fā)組成、晶相、形狀、大小可控的高質(zhì)量的上轉(zhuǎn)換納米材料合成方法，對(duì)調(diào)節(jié)上轉(zhuǎn)換納米材料的化學(xué)、光學(xué)性能，以及拓展其在不同領(lǐng)域的潛在應(yīng)用前景都至關(guān)重要。迄今為止，不同課題組都報(bào)道了許多上轉(zhuǎn)換納米材料的合成方法，其中常用的有熱分解法、水熱/溶劑熱法、沉淀/共沉淀法。

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上轉(zhuǎn)換納米材料的修飾方法：

常用的UCNPs水溶性修飾方法，包括配體交換、配體清除、配體氧化、層層組裝。

NAYF4:YB/TM上轉(zhuǎn)換熒光材料

NaYF 4:Yb/Tm@NaYF4核殼上轉(zhuǎn)換發(fā)光顆粒

NaYF4:Yb/Tm上轉(zhuǎn)換納米顆粒

主發(fā)射峰365nm上轉(zhuǎn)換納米顆粒

發(fā)射峰475nm稀土上轉(zhuǎn)換發(fā)光顆粒

主發(fā)射峰550nm稀土上轉(zhuǎn)換粒子

主發(fā)射峰660nm稀土發(fā)光顆粒

發(fā)射峰804nm上轉(zhuǎn)換納米顆粒

150nm尺寸上轉(zhuǎn)換納米顆粒

500nm納米稀土上轉(zhuǎn)換發(fā)光顆粒

基質(zhì)材料β-NaGdF4上轉(zhuǎn)換納米顆粒

尺寸在 7 nm-30 nm上轉(zhuǎn)換發(fā)光顆粒

核殼結(jié)構(gòu)上轉(zhuǎn)換納米顆粒@介孔硅材料（UCNPs@m-SiO2）

尺寸在 10 -50 nm介孔硅包裹上轉(zhuǎn)換納米顆粒

發(fā)射波長(zhǎng)364、474、454、523、545、650、804 nm上轉(zhuǎn)換顆粒

25nm油溶上轉(zhuǎn)換納米顆粒

42nm稀土上轉(zhuǎn)換納米粒子

核殼結(jié)構(gòu)上轉(zhuǎn)換納米晶(NaYF4:Yb,Tm@NaYF4:Yb,Er)

Yb^3+/Er^3+/Tm^3+三摻Y(jié)F3上轉(zhuǎn)換

Nd3+摻雜的NaYF4:Yb,Er/Tm 上轉(zhuǎn)換納米顆粒

稀土上轉(zhuǎn)換納米顆粒(mPEG-UCNPs)

水溶性NaLaF4:12％Yb3+,3％Er3+稀土上轉(zhuǎn)換顆粒

核殼NaYF4:Yb3+,Er3+@nSiO2@mSiO2上轉(zhuǎn)換納米顆粒

Na_3ZrF_7:Er/Yb上轉(zhuǎn)換納米顆粒

納米NaYF4:Er^3+,Yb^3+上轉(zhuǎn)換材料

BaMgF_4:Er~(3+),Yb~(3+)上轉(zhuǎn)換納米晶

鑭系摻雜NaYF_4上轉(zhuǎn)換發(fā)光納米顆粒

葉酸修飾上轉(zhuǎn)換納米顆粒

CRGD多肽修飾上轉(zhuǎn)換納米顆粒

聚丙烯酸修飾上轉(zhuǎn)換納米粒子

小編瑞禧YQ2021.5

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