石墨烯常見的形態(tài)為兩類：石墨烯粉體和石墨烯薄膜。石墨烯粉體為納米——原子級，十層以內(nèi)二位結(jié)構(gòu)的石墨自然聚集，被視為石墨烯，常見制備方法為液相剝離法、氧化還原法等。石墨烯薄膜是層數(shù)較少、一般為單層到十層以內(nèi)、需生長或生長后通過一定技術(shù)手段轉(zhuǎn)移于一定特殊基基底上的，有連續(xù)分布石墨烯的材料。

理想的石墨烯是原子級二維正六邊形結(jié)構(gòu)碳原子，不過很多商家銷售并不是真正意義上的石墨烯，而是由不完全二維結(jié)構(gòu)的多層以上碳原子碎片拼湊的多晶碳薄膜，與理論上石墨烯薄膜有著相當大的區(qū)別。

石墨烯 單層CVD石墨烯--藍寶石基底/石英基底/玻璃基底*cm**cm

石墨烯 單層CVD石墨烯 (硅/二氧化硅基底) 5cm*5cm

石墨烯 單層CVD石墨烯--PET基底2cm*2cm

石墨烯 單層CVD石墨烯--玻璃基底*5cm*5cm

石墨烯 單層CVD石墨烯--玻璃基底5cm*5cm

石墨烯 單層CVD石墨烯--石英基底*5cm*5cm

襯底是生長石墨烯的重要條件，目前發(fā)現(xiàn)的可以用作石墨烯制備的襯底金屬有8～10個過渡金屬（如Cu，Au、Fe，Ru，Co，Rh，Ir，Ni，Pd，Pt），和合金（如Ni-Mo，Co-Ni，Au-Ni，不銹鋼）。過渡金屬在石墨烯的CVD生長過程中既作為生長基底，也起催化作用。