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科研小型臺(tái)式磁控濺射儀 真空鍍膜機(jī)

2023-09-18 10:31 作者:科探燕子15515545802  | 我要投稿

KT-Z1650CVD是一款小型臺(tái)式加熱功率可控蒸發(fā)鍍膜儀,儀器雖小,功能齊全。配備有電壓電流反饋,樣口臺(tái)旋轉(zhuǎn)樣高度可調(diào)節(jié),及電動(dòng)擋板功能。通過(guò)定時(shí)調(diào)節(jié)預(yù)熱功率蒸發(fā)功率,可對(duì)大部分金屬進(jìn)地均勻蒸發(fā)沉積。真空腔體為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜和有機(jī)物薄膜。

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主要特點(diǎn)/優(yōu)勢(shì):

?????玻璃鐘罩真空腔室,最直觀的蒸發(fā)狀態(tài)和薄膜沉積現(xiàn)象觀察;

?????復(fù)合分子泵和直聯(lián)旋片泵,大抽速準(zhǔn)無(wú)油真空系統(tǒng)(分子泵抽速≥400L/S);

?????兩組水冷式蒸發(fā)電極,可長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定工作,兼容金屬材料與有機(jī)材料的蒸發(fā)源設(shè)計(jì);

?????專(zhuān)業(yè)真空蒸發(fā)電源,數(shù)顯工作電流和電壓,恒流輸出;

?????可定制一體化高精度刻蝕掩膜板;

?????襯底可選擇加熱或水冷,源基距≥300mm;

?????可調(diào)速旋轉(zhuǎn)靶臺(tái)使薄膜更均勻

?????可沉積金屬(Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Fe, Cr, Ni等)、非金屬、化合物(MoO3, LiF等)及有機(jī)物材料,可拓展沉積單層膜、多層膜及混合膜;

★ ?7寸顯示器定時(shí)定點(diǎn)調(diào)節(jié)電流,達(dá)到控制功率效果

★ ?具有記憶儲(chǔ)存功能,直接調(diào)出已儲(chǔ)存的數(shù)據(jù)進(jìn)行鍍膜達(dá)到同樣工藝效果

★ ?配置了靶臺(tái)擋板,可手動(dòng)調(diào)節(jié)或自動(dòng)調(diào)節(jié)擋板,及時(shí)遮擋樣品,保證樣品效果


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