半導(dǎo)體制程工藝的不斷進(jìn)步，精度的不斷提高，不僅僅是制程設(shè)備的精益求精，對于潔凈室中存在的氣態(tài)分子污染物（AMC）的監(jiān)測和管控的要求也越來越高。任何漂浮在空氣中的污染物沉積在晶圓表面，都會影響工藝降低良品率。由于制程的眾多復(fù)雜步驟，導(dǎo)致PPT級的污染物都會較大程度的影響晶圓良品率。

　　氣態(tài)分子污染物（Airborne molecular contaminant，AMC）包含：酸類（MA）、堿類（MB）、可凝結(jié)物質(zhì)（MC）和摻雜物質(zhì)（MD），隨著制程尺寸越來越小，工藝復(fù)雜度和步驟不斷增加的大前提下，潔凈室內(nèi)的AMC數(shù)目和類別也會持續(xù)增加。一套靈敏度高，監(jiān)測速率快，監(jiān)測點(diǎn)位多的整套系統(tǒng)就必不可少。

　　面對日益精進(jìn)的制程工藝，AMC監(jiān)測技術(shù)也在不斷升級，瑞零AMC在線監(jiān)測系統(tǒng)將內(nèi)部與外部污染源實(shí)時(shí)監(jiān)控，極高靈敏度和濃度報(bào)警機(jī)制，能及時(shí)反饋給廠務(wù)端，從而控制好污染物釋放，保證良品率。