書籍：《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》

文章：臭氧在濕法加工中的先進(jìn)作用

編號(hào)：JFKJ-21-341

作者：炬豐科技

氧化物膜的沉積

? 臭氧是在使用時(shí)產(chǎn)生的，可以很容易地轉(zhuǎn)化為氧氣 IMEC開發(fā)了一種晶片清洗工藝，與廣泛使用的 RCA 清洗相比，顯示出更好或當(dāng)?shù)男阅?這種新的清洗工藝使臭氧成為可能溶于去離子水或純水，無需使用硫酸或二氫氯酸，并顯著減少 RCA 清潔的步驟數(shù)。

實(shí)現(xiàn)單晶片濕法清潔的漸進(jìn)步驟

? 如果要求是高濃度和高流動(dòng)性，該技術(shù)可以應(yīng)對(duì)未來的挑戰(zhàn) 然而，當(dāng)考慮單晶片應(yīng)用時(shí)，可能不需要這樣的靈活性，相反，較小的系統(tǒng)和較低的流速將是令人滿意的 - LIQUOZON 具有靈活性產(chǎn)品市場的 Christiane Gottschalk 說，覆蓋臭氧濃度和流量的\cn vide 范圍

? 使用專為 LIQUOZON 殘留物開發(fā)的高效接觸器實(shí)現(xiàn)了高臭氧濃度氣體在集成的臭氧破壞裝置中重新轉(zhuǎn)化為 O2 另外不同的是 SEMOZON 臭氧生成技術(shù)，它創(chuàng)造了通過局部控制的最高純度臭氧氣體。且在閉環(huán)濃度控制的幫助下，可以在\ ariablc 流速下提供穩(wěn)定的臭氧濃度因此，它非常適合在具有固定工藝配方的制造過程中使用，但也適用于處理需要廣泛靈活性。

臭氧水輸送系統(tǒng)

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? 子系統(tǒng)旨在提供最高濃度的溶解臭氧——從 5 - 90 ppm 到高純度半導(dǎo)體和平板應(yīng)用，如濕晶圓清洗、光刻膠剝離、污染物去除、表面調(diào)節(jié)和氧化物生長。臭氧是許多工藝化學(xué)品的環(huán)保替代品。子系統(tǒng)的使用降低了有毒化學(xué)品的消耗和處置成本。LIQUOZON 系統(tǒng)的閉環(huán)控制與智能電氣接口相結(jié)合，可以將超凈臭氧水以可變流速輸送到多個(gè)工具。

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